High-k

释义 Definition

high-k（高介电常数的）：指介电常数（k）较高的介电材料或薄膜，常用于半导体与微电子中（如高k栅介质），以在保持足够电容的同时降低漏电流、支持器件继续微缩。（也可泛指“高k材料/高k介质”这一类材料体系。）

发音 Pronunciation (IPA)

/ˌhaɪ ˈkeɪ/

词源 Etymology

由 high（高的）+ k 组成；其中 k 是工程与物理中对介电常数/相对介电常数的常用符号（也常写作 κ，kappa）。因此 high-k 字面意思就是“介电常数高的”。

例句 Examples

High-k materials help reduce leakage in small transistors.
高k材料有助于降低小尺寸晶体管中的漏电。

As CMOS devices scaled down, high-k gate dielectrics such as hafnium oxide replaced silicon dioxide to maintain capacitance while limiting tunneling current.
随着CMOS器件不断微缩，诸如氧化铪等高k栅介质取代了二氧化硅，以在维持电容的同时限制隧穿电流。

文学与作品 Literary Works

S. M. Sze & Kwok K. Ng, Physics of Semiconductor Devices（教材/专著中常在栅介质与漏电相关讨论中出现 high-k 概念）
Yuan Taur & Tak H. Ning, Fundamentals of Modern VLSI Devices（在器件微缩与栅介质材料章节中常见 high-k/高k栅介质表述）
Robert F. Pierret, Semiconductor Device Fundamentals（相关章节讨论栅氧化层与替代介质时常涉及 high-k）
学术论文：如 IBM、Intel 等在 IEEE Electron Device Letters、IEEE Transactions on Electron Devices、Applied Physics Letters 上关于 high-k gate dielectric 的经典论文中频繁出现该词